半导体污水处理

概述

       随着电子产品应用领域日益扩大，半导体对我国发展具有重要的意义。半导体涉及行业广泛，根据生产原料及工序的不同，产生废水的废水性质也不同，但都存在着排水量大，污染能力强的特点，严重危害生态环境健康的同时也制约其发展。

污水来源及水质特点

       根据半导体生产废水污染物的特点，可将半导体废水分为三类，主要来源于生产过程中产生的含氟废水、有机废水及金属离子废水，详细介绍如下：

       1、含氟废水，废水主要来自于半导体生产工序的刻蚀段，由于使用了大量的氢氟酸、氟化铵等试剂，产生的污染如氟化物、氨氮等浓度较高，废水一般呈强酸性；

       2、有机废水，其污染物质主要是一些常规污染物，生产浓度跟生产工艺及操作管理水平关系较大，COD一般在200～3000mg/L；

       金属离子废水，半导体废水中的金属离子种类众多，主要如铜、镍、锡、铅、银等，浓度一般在几十mg/L。

处理难点分析

       高浓度的含氟废水处理难度大，一般的化学沉淀法难以彻底去除水中的氟离子，在排放要求高的时候，应对其采用多种组合工艺处理。

       半导体有机废水浓度不会太高，但不同企业的水质变化大，其进水水质需根据化验监测结果来确定。

       对于不同种类的高浓度金属离子废水，应该分开收集进行处理，若废水中含金属离子种类较多，工艺流程会较长。

污水处理工艺

       含氟废水一般采用化学沉淀法，投加钙盐与水中的氟离子形成CaF2，再加以混凝剂辅助即可去除水中的氟离子。出水要求高时，可与生化法、吸附法等联合运用。

       有机废水一般采用经济的生化法，如单独的好氧法或与缺氧法、厌氧法组合工艺，对于废水中COD、氨氮、总氮等常规污染物去除效果非常可观。

       金属离子废水则需针对不同废水不同种类进行选择，常用的有化学沉淀法、吸附法、离子交换法等。

       半导体行业生产需水甚多，用水要求不高，一般建议将废水做回用处理，以节约生产成本。具体可见我司零排放及中水回用单元。